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半导体激光宽带淬火中多道搭接问题研究

发布时间:2016-04-01作者:小王子

  采用矩形光斑进行激光淬火,具有较高的淬火效率和淬火均匀性,通过宽带矩形光斑进行多道搭接激光淬火,是实现大面积激光淬火强化的重要途径。然而,宽带多道激光淬火过程中,搭接带间的软化问题是困扰其应用的关键,本研究对此进行了工艺优化研究。

  一、试验材料及设备

  试验所用材料为42CrMo,采用CT-150半导体激光专用吸光涂料,喷涂在样品表面,提高其吸光率。激光设备为3kW机器人半导体激光强化系统,聚焦镜为15mm×2mm的宽带镜。

  利用XJL-03型显微镜进行熔覆层组织分析,采用HVS-1000A维氏硬度计测定熔覆层的显微硬度,测量时载荷0.2kg,加载时间为10s,分析淬火带及搭接带的硬度分布规律。

  二、试验结果

  激光功率选择2kW,扫描速度选择8mm s-1,光斑为15mm×2mm,改变搭接量分别为0.5mm、1mm和2mm进行试验。不同搭接量及不同深度处,硬度曲线图。

图1 搭接量为0.5mm、离表面不同距离处的硬度分布图

图2 搭接量为1mm、离表面不同距离处的硬度分布图

图3搭接量为2mm、离表面不同距离处的硬度分布图

  线分布分别如图1,2,3所示。从图中看出,在不同淬火层深处,三种不同的搭接量都导致一个软化带的形成,将图中结果进行整理,软化带的宽度分别见表1所示。

  表1 不同搭接量和不同层深处软化带的宽度

  三、结论

  搭接0.5mm,1mm,2mm时表面软化带宽度分别为0.7mm,1.1mm和1.2mm,软化带的硬度差别不大,约为HV400-440,但是搭接0.5mm,1mm时,搭接区域硬化层底部存在未淬火的三角形区,硬度仅为HV240,三角形面积随搭接量的减小而增大。因此,最优化搭接参数为搭接量为2mm,即搭接率为13.3%。(作者:武汉武钢华工激光大型装备有限公司 莫衡阳、熊大辉、王喜、王爱华)

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