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全新光电选择LayTec原位测量技术 加强VCSEL制造

发布时间:2018-05-25作者:智汇胡妮

据麦姆斯咨询报道,中国台湾纯代工厂Visual Photonics Epitaxy Co Ltd(VPEC,全新光电)近日宣布为其VCSEL(垂直腔面发射激光器)生产引进了德国柏林厂商LayTec的原位测量产品。

LayTec的EpiTT/VCSEL包括两个光纤测量头:一个用于标准EpiTT,另一个用于光谱反射率传感(R-VCSEL)。两个光纤测量头均可通过EpiCurve?测量头上的转接法兰进行连接EpiCurve?/VCSEL系统,该项设置可同时集成完整的EpiCurve?TT性能和DBR(分布式布拉格反射镜)阻带和腔倾角位置的频谱监测功能。这款四合一计量工具安装于Aixtron?G3行星式反应器顶部。EpiTT/VCSEL和EpiCurve?TT/VCSEL由新型软件模块供电,可实现单阱和多阱运行。

为了支持全球3D传感和其它快速增长的应用对VCSEL芯片的需求,LayTec将VCSEL Add-On用于其EpiTT和EpiCurve TT系统,提供了额外的原位光谱反射率传感,并可在GaAs基和InP基近红外/红外(NIR/IR)VCSEL工艺波长范围内进行定制,实现这类高度复杂的多层结构器件的高良率制造。

VCSEL Add-On也可作为现有EpiTT或EpiCurve TT系统的升级版本。凭借配备先进的实时分析算法,除了EpiTT的晶圆温度和生长速率监测,以及EpiCurve TT的晶圆弯曲测量外,它还能够在VCSEL外延过程中监测DBR(分布式布拉格反射镜)阻带和腔倾角位置。

苹果iPhone X红外点阵投影器中的VCSEL芯片

来源:《苹果iPhone X红外点阵投影器》

“VPEC为VCSEL晶圆制造选择了LayTec市场领先的原位测量技术,作为实现我们高标准的品质和良率的基本要素,” VPEC高级副总裁Neil Chen评价说,“将现有的晶圆温度、晶圆弯曲和生长速率控制,结合新的频谱监测性能,是VCSEL代工厂工艺转移、快速调整配方和扩大规模的关键。”

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