英特尔斥资30亿美元扩建d1x工厂

当地时间周一(4月11日)，芯片巨头英特尔正式启动扩建其位于美国俄勒冈州的D1X工厂，该公司将为此投资30亿美元，旨在加速技术开发，以重新获得芯片行业的领导地位。

据英特尔高级副总裁Sanjay Natarajan介绍，扩建面积为27万平方英尺，完成后将使D1X工厂的规模增加20%。

英特尔表示，这次升级将使该公司能用使用巨大的新型制造工具来生产先进的芯片，之后将在英特尔在世界上的其他工厂复制这一模式。

英特尔的总部在硅谷，但自上世纪90年代以来，它最先进的研究一直在俄勒冈州进行。

据了解，英特尔的10nm制程晚了好几年，这使得台积电和三星电子等公司能提供比英特尔产品更好的外包生产。台积电和三星电的客户，例如英伟达和AMD，已推出更具竞争力的产品并抢下市占，挤压英特尔。

D1X-Mod3的主要工作实际上从去年8月份就开始了，其重大意义在于，为工厂增加了2.5万平米的洁净室空间，将D1X扩大了20%，这便为最终足以搬进ASML的下一代最先进高数值孔径（High NA）EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200 EUV创造必要条件。

和服务Intel 3/4工艺的NXE 3000系列EUV光刻机相比，EXE 5200大了很多，突破了D1X原“天花板”。

为重新获得芯片行业的领先地位，英特尔首席执行官Pat Gelsinger此前承诺，该公司将投资800亿美元在亚利桑那州和俄亥俄州以及德国建立新工厂，并将在芯片研究上再投资数十亿美元。

英特尔的大规模投入固然激发了公司在技术领域获得进步的动力，但却让投资者感到震惊，并打压了公司股价。这家芯片制造商曾警告称，在未来数年里，公司的利润率都将受到限制。

英特尔希望美国和欧盟能赋予其巨额补贴，从而抵消部分支出。而美国总统拜登同样希望扶持本土芯片制造业。

目前，美国国会两党对一项价值520亿美元的芯片补贴法案已达成共识，但由于该法案被包括在另一项更广泛的支出法案中，在国会被搁置了数月之久，原因是两党对众议院版本中的部分条款存在分歧。国会上周为此成立了一个专门委员会，旨在解决分歧，为最终通过法案扫清道路。